第37回 アナログ技術トレンド（HAB研）セミナのご案内 報告記事>>
（旧；高周波・アナログ半導体技術セミナ）
■テーマ： 「新しいワイドギャップ半導体；酸化ガリウムデバイスの動向」
■日 時： 平成26年11月26日（水）14：00～17:00 （セミナ終了後、交流会が行われます）
■場 所： 京都テルサ 西館3階 第2会議室（京都府民総合交流プラザ内）
■内 容：
講 演 「酸化ガリウムパワーデバイス研究開発の現状と今後の展開」
東脇 正高 氏 （（独）NICT 未来ICT研究所 グリーンICTデバイス先端開発センター長）
講 演 「酸化ガリウムの結晶成長 および ＬＥＤ応用」
倉又 朗人 氏 （㈱タムラ製作所 コアテクノロジー本部シニアスペシャリスト）
講 演 「酸化ガリウム系半導体の機能と期待される応用」
藤田 静雄 氏 （京都大学 工学研究科 光・電子理工学教育研究センター 教授）
■参加費： 講演会 HAB研会員・NEDIA会員は無料、非会員は5,000円（交流会 会員・非会員とも2,000円）
■主 催： NPO法人 高周波・アナログ半導体ビジネス（HAB）研究会
■協 賛：一般社団法人 日本電子デバイス産業協会（NEDIA）
■参加お申込み：下記URLよりお申込下さい。
URL; http://www.npo-hab.org/050.html#037 (最新情報を随時、掲載しております。)
定員60名 ※定員に達し次第、締切らせていただきます。
お申込み締切日：平成26年11月19日（水）
※締切日前であっても、定員に達しましたら、締切らせていただく場合がございます。
お早めにお申し込み下さいませ。
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NPO法人 高周波・アナログ半導体ビジネス研究会 （HAB研） 理事長：南部 修太郎
【お問い合わせ先】
（㈱アセット・ウィッツ内）担当：西河、高橋
TEL：075-681-7825 / FAX：075-681-7830
E-mail：h-analog@npo-hab.org
HP: http://www.npo-hab.org
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